一种新合成光固化牙釉质黏接剂超微结构及力学性能的研究

【作者】 麻杰； 刘月华；

【机构】 同济大学口腔医学院；

【摘要】 目的:观察新合成的单组分光固化牙釉质黏接剂引物及糊剂与牙釉质黏接界面的超微结构特点,并检测分析其光固化后不同时间点的黏接剪切强度及变化规律。方法:以黏接剂及符合实验要求的6颗离体双尖牙制备试样,通过日本HITACHI公司产S-2360N型扫描电子显微镜观察黏接剂自身结构以及黏接剂-牙釉质界面的超微结构特点;使用LJ-500型材料力学万能试验机测试并比较实验室条件下三种正畸黏接剂(新合成黏接剂、TransbondXT正畸黏接剂和京津釉质黏合剂)固化后24小时、7天和30天的黏接强度;测试并比较新合成黏接剂光固化后5分钟、10分钟、20分钟、30分钟、24小时、7天和30天的黏接强度。结果:①引物对牙釉质的渗透较好,与牙釉质表面形成比较光滑的混合层;②黏接剂渗透入牙釉质形成的树脂突数量较多但长短不一;③黏接剂光固化后第30天的黏接剪切强度最高;24小时和7天组的黏接强度大于其余4个时间组。结论:本材料在离体环境下的初步实验结果显示:材料在牙釉质内树脂突渗透良好,但长度不规则:黏接剂光固化后30天内,黏接强度随时间延续而增加,光固化后20分钟内的黏接强度略低于正畸临床要求的强度范围。更多还原