PECVD法沉积非晶SiO_x薄膜的红外吸收特性研究

【作者】 何乐年； 王德苗； 鲁效；

【机构】 浙江大学信息与电子工程学系薄膜研究室；

【摘要】 用富里叶红外光谱（FT-IR）测试分析了等离子体化学气相沉积法（PECVD）沉积的非晶SxOx（0<x<2.0）薄膜中的Si-O-Si伸缩振动模与氧含量x的关系。Si-O-Si伸缩振动模在1000cm^-1和1150cm^-1有两个吸收峰。1000cm^-1和1150cm^-1吸收强度之和Isum与薄膜中的Si原子密度Nsi之比Isum/Nsi,在x=0～2.0的范围内和x成正比。求得比例系数Asio（Si-O-Si谐振子强度的倒数）为1.48×10¹⁹cm^-1用Asio可快速简便地求a-SiOx膜中的氧含量。更多还原