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高电荷态离子轰击Al2O3/Al表面引起的二次粒子溅射研究
【作者】 王铁山； 程锐； 彭海波； 韩运成； 赵永涛； 肖国青；
【机构】 兰州大学核科学与技术学院； 中国近代物理研究所,中国科学院兰州分院；
【摘要】 <正>高电荷态离子(Highly Charged Ions-HCIs)拥有很强的库仑势能,其能量等于将入射粒子从原子状态剥离到电荷态为 q+时电子结合能的总合。当离子入射到固体材料表面时,这些势能得以释放,进而产生势能溅射(Potential Sputtering-PS)效应。相比较传统的动能溅射(Kinetic Sputtering),PS 更多的只是发生在表面区域(表面几个原子层内),而不会对材料内部造成辐射损
- 【会议录名称】 第十三届全国核物理大会暨第八届会员代表大会论文摘要集
- 【会议名称】第十三届全国核物理大会暨第八届会员代表大会
- 【会议时间】2007-08
- 【会议地点】中国甘肃兰州、嘉峪关
- 【分类号】O572.21
- 【主办单位】中国核物理学会