高能氩离子辐照聚碳酸脂薄膜的核径迹蚀刻

【作者】 刘刚； 李长林； 孙友梅； 马峰； 侯明东； 金运范； 徐荣辉；

【机构】 中国科学院近代物理研究所；

【摘要】 <正>重离子辐照并贯芽高分子聚合物薄膜,可以沿着离子路径形成核径迹。选择适当的重离子种类、入射能量、和化学处理方式可沿核径迹方向形成穿孔并得到核微孔膜,它具有高选择过滤性能,因此在工业和医学等领域具有重要的应用价值．用加速器引出的重离子束制备核微孔膜,具有能量和质量单一、无污染、和参数可调等优点,巴愈来愈受到人们的重视。与其它聚合物材料相比,聚碳酸脂的核径迹蚀刘率(V_i)和非辐照损伤区域的体蚀刻率(V_i)之比最高,核径迹成孔条件较好。本工作研究了高能氩离子辐照多层聚碳酸脂薄膜的核径迹蚀刻,目的是积累数据,并用以指导制备核微孔膜。更多还原