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磁控溅射ZAO透明导电薄膜靶材及薄膜制备技术
Research and development of aluminum doped ZnO transparent conductive oxide films and target by magnetron-sputtering
【Author】 XIAO Hua, WANG Hua, REN Ming-fang, Chen Guo-hua(Guilin Institute of Electronic Technology, Guilin 541004, China)
【机构】 桂林电子工业学院；
【摘要】 综述了磁控溅射ZAO透明导电薄膜及其靶材的发展现况和趋势。在详细介绍透明导电薄膜的基本性能及其存在问题的基础上,重点阐述了ZAO薄膜的结构、电学和光学特性及应用,并针对靶材的制备和利用磁控溅射技术制备ZAO透明导电薄膜过程中存在的问题及发展方向进行了分析。
【Abstract】 Development of transparent conductive thin films and target by magnetron-sputtering were summarized. Structure, electrical and optical property, and application of ZAO thin films were emphatically described for existing problems in detail. Finally current problems and developing tendency in preparation of ZAO target and ZAO thin films by magnetron-sputtering were discussed in the direction of research.
【关键词】 磁控溅射；
ZAO透明导电薄膜；
溅射靶材；
光电特性；
【Key words】 magnetron-sputtering； ZAO thin films； sputtering target； electrical and optical propeny；
【Key words】 magnetron-sputtering； ZAO thin films； sputtering target； electrical and optical propeny；
- 【会议录名称】 2004全国光学与光电子学学术研讨会、2005全国光学与光电子学学术研讨会、广西光学学会成立20周年年会论文集
- 【会议名称】2004全国光学与光电子学学术研讨会;2005全国光学与光电子学学术研讨会暨广西光学学会成立20周年年会
- 【会议时间】2004-08-01;2005-10-15
- 【会议地点】中国山东烟台;中国桂林
- 【分类号】TB43
- 【主办单位】中国兵工学会;中国兵工学会、中国兵工学会光学专业委员会、广西光学学会、《光学技术》杂志社