【作者】 任雪勇； 谢泉； 杨吟野； 肖清泉； 杨创华； 曾武贤； 梁艳；

【Author】 REN Xue-yong XIE Quan YANG Yin-yie XIAO Qing-quan YANG Chuang-hua ZENG Wu-xian LIANG Yan (School of Electronic Science and Information Technology,Guizhou University,Guiyang 550025,China)

【机构】 贵州大学电子科学与信息技术学院；

【摘要】 采用射频磁控溅射技术在 Si（100）衬底上沉积了 Si-Ca-Si 薄膜,并在高真空条件下对样品进行退火处理,直接生成立方相 Ca₂Si 薄膜。研究了不同溅射功率对薄膜的晶体结构、表面（断面）形貌的影响,并对其光学性质进行了测试分析。结果表明：Ca₂Si 薄膜为立方结构且具有沿（111）向择优生长的特性,当溅射功率为120W 时,Ca₂Si 薄膜变的均匀、致密,在400～800 nm 波长范围内,溅射功率对折射率 n 和吸收系数 k 的影响较小。更多还原

【Abstract】 Si-Ca-Si films were deposied on Si（100）by radio frequency magnetron sputtering,which were annealed at 800℃ for 1.5h.The crystal structure,surface roughness,cross roughness and optical properties at different sputtering power were studied.The results indicate that the Ca₂Si films are cubic structure,the films are equality and compact when the sputtering power is 120 W.The result of the optical constants of the film shows that n （λ） and k （λ） go down slightly by sputtering power with the wavelength from 400nm to 800nm.更多还原