【作者】 曾武贤； 谢泉； 梁艳； 张晋敏； 肖清泉； 杨吟野； 任学勇；

【Author】 ZENG Wu-xian XIE Quan LIANG Yan ZHANG Jin-min XIAO Qing-quan YANG Yin-ye REN Xue-yong (Department of Electronic Science and Information Technology,Guizhou University,Guiyang,550025,China)

【机构】 贵州大学电子科学与信息技术学院；

【摘要】 采用磁控溅射方法,在不同的溅射气压（Ar 气0．5～3．0Pa）条件下沉积纯金属 Fe 到 Si（100）衬底上, 通过真空退火炉在800℃对样品进行保温2h,直接形成了正交的β-FeSi₂薄膜,利用 X 射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、椭偏光谱仪,对不同溅射气压下合成的β-FeSi₂薄膜的结晶特性、表面形貌及光学性能进行表征,研究了不同溅射气压对制备β-FeSi₂薄膜的影响．结果表明：在1．5Pa 时能形成较好的β-FeSi₂薄膜,临界溅射气压在2．0Pa 附近,当溅射气压低与临界值时, β-FeSi₂薄膜的成核密度较高,且成核密度随溅射气压的增大而降低；当溅射气压超过临界值以后,β-FeSi₂薄膜的成核密度基本不变；薄膜的折射率 n 随压强的增大而增大,消光系数 k 随压强的增大而减小．更多还原

【Abstract】 In this paper using the magnetron sputtering method,the Fe films were deposited on Si（100）at different sputtering pressures（Ar 0.5～3.0Pa）,by then annealed at 800℃ for 2 h.The influence of sputtering pressure on the crystallinity and optical properties was studied by X-ray diffraction（XRD）,scanning electron microscope（SEM）and spectroscopic ellipsometry.The result show that the best β-FeSi₂ films can be grown at 1.5Pa.The critical sputtering pressure is 2.0Pa,when the sputtering pressure up to the critical sputtering pressure the density of β-FeSi₂ grains is high grains and decline with the increasing of sputtering pressure.When the sputtering pressure exceeds the critical sputtering pressure the density of β-FeSi₂ grains is roughfly a constant;the refractive index increas and the extinction coefficient diereas with the sputtering pressure of the increasing.更多还原