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用于微测辐射热计的氧化钒薄膜的光电性能研究
Optical and electrical properties of VO_x thin film for microbolometer
【Author】 WANG Yin-ling, LI Mei-cheng, LI Hong-tao, ZHAO Lian-cheng (School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)
【机构】 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院；
【摘要】 采用磁控溅射方法在p-Si(100)衬底上制备了VO2和择优取向的V6O13混合相成分的薄膜.利用X射线衍射(XRD)分析、原子力显微镜(AFM)、傅立叶红外光谱(FT-IR)分析及四探针测试方法,研究了薄膜的相成分和红外吸收特性,并测试分析了薄膜的电学热稳定性.研究结果表明,通过这种方法制备的氧化钒薄膜具有较低的电阻率和较高的电阻温度系数(TCR),并且具有良好的热稳定性,可以作为微测辐射热计的热敏材料.
【Abstract】 Thin film composed of VO2 and V6O13 which grows in preferential direction has been prepared by magnetron sputtering onto p-Si (100) substrates. X-ray diffraction (XRD), atomic force microscope (AFM), Fourier Transform Infrared Spectrum (FT-IR) and four-point probe method are used for the study on phases and infrared absorption characteristic of the VOx thin film. The thermal stability of film is also investigated. VOx film prepared by this method has relatively low resistivity, high temperature coefficience of resistance (TCR) and perfect thermal stability. It is promising for application as thermal sensor material in the microbolometcr.
【Key words】 vanadium oxide； phase transition； infrared absorption characteristic； thermal stability；
- 【会议录名称】 第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅲ
- 【会议名称】第五届中国功能材料及其应用学术会议
- 【会议时间】2004-09
- 【会议地点】中国北京·秦皇岛
- 【分类号】TB383
- 【主办单位】国家仪表功能材料工程技术研究中心、国家“863”计划新材料领域专家委员会、中国仪器仪表学会仪表材料学会、中国金属学会、中国稀土学会、中国复合材料学会、中国有色金属学会、重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、包头稀土研究院、钢铁研究总院、北京工业大学、燕山大学、山东大学、云南大学、上海交通大学、华中科技大学、天津大学、四川大学、湖南大学、大连理工大学、南京大学、清华大学、西南师范大学、北京科技大学、北京大学、厦门大学、中南大学、电子科技大学、重庆大学、福州大学、吉林大学、哈尔滨工业大学、武汉大学、西安理工大学、北京交通大学、西北工业大学、苏州大学、东北大学、复旦大学、武汉理工大学、浙江大学、北京理工大学、北京航空航天大学、中国科技大学、西南交通大学、南开大学、《功能材料与器件学报》编辑部、《功能材料》编辑部