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CVD金刚石厚膜晶格缺陷分析
Lattice defect analysis of CVD diamond thick films
【作者】 孙心瑗； 周灵平； 林良武； 李得意； 李绍禄； 陈本敬；
【Author】 SUN Xin-yuan, ZHOU Ling-ping, LIN Liang-wu, LI De-yi, LI Shao-lu, CHEN Ben-jing ( Material Science and Engineering College of Hunan University, Changsha 410082, China)
【机构】 湖南大学材料科学与工程学院；
【摘要】 应用X射线衍射仪的薄膜附件对热丝化学气相沉积金刚石厚膜的成核面和生长面进行分析,结果表明,金刚石厚膜的晶格常数从生长面到形核面沿深度方向是逐渐变小的.化学气相沉积金刚石初期生长的晶体存在大量的空位等缺陷,晶格松弛,在金刚石膜持续生长过程中,形核面和膜内部在高温下发生长时间的自退火,缺陷浓度下降,晶格松弛现象消除,晶格常数变小并趋于理论值.试验表明,经长时间高温自退火的金刚石厚膜比薄膜具有更高的耐磨性.
【Abstract】 The lattice constant of chemical vapor deposited diamond thick films was measured from the surface to the interior by X-ray diffractmeter glancing attachments. The experiment results show that lattice constant of diamond in the growth surface is larger than those of their interior and nucleation surface. More defects forming in the growth plate during deposition almost attribute to the lattice constant relaxation, which makes its lattice constant get larger. However, self-annealing of diamond thick films for long time in the process of deposition makes their lattice constant in their interior and nucleation plate approach its naturai value. The wear property of diamond thick films is better than that of diamond thin films.
【Key words】 CVD diamond thick films； X-ray diffraction； lattice relaxation； self-annealing； wearproperty；
- 【会议录名称】 第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅱ
- 【会议名称】第五届中国功能材料及其应用学术会议
- 【会议时间】2004-09
- 【会议地点】中国北京·秦皇岛
- 【分类号】TB43
- 【主办单位】国家仪表功能材料工程技术研究中心、国家“863”计划新材料领域专家委员会、中国仪器仪表学会仪表材料学会、中国金属学会、中国稀土学会、中国复合材料学会、中国有色金属学会、重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、包头稀土研究院、钢铁研究总院、北京工业大学、燕山大学、山东大学、云南大学、上海交通大学、华中科技大学、天津大学、四川大学、湖南大学、大连理工大学、南京大学、清华大学、西南师范大学、北京科技大学、北京大学、厦门大学、中南大学、电子科技大学、重庆大学、福州大学、吉林大学、哈尔滨工业大学、武汉大学、西安理工大学、北京交通大学、西北工业大学、苏州大学、东北大学、复旦大学、武汉理工大学、浙江大学、北京理工大学、北京航空航天大学、中国科技大学、西南交通大学、南开大学、《功能材料与器件学报》编辑部、《功能材料》编辑部