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CoCrPtNb/CrTi/C玻璃盘基磁记录介质制备与性能

Preparation and properties of CoCrPtNb/CrTi/C magnetic recording media using glass substrate

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【作者】 杨晓非游龙李震林更琪李佐宜

【Author】 YANG Xiao-fei, YOU Long, LI Zhen, LIN Geng-qi, LI Zuo-yi (Department of Electronics of Science and Technology, Huazhong Univ. of Sci. & Tech, Wuhan 430074, China)

【机构】 华中科技大学电子科学与技术系

【摘要】 采用CoCrPtNb四元合金作磁记录介质,并使用多层膜结构C/(CoCrPt)100-xdNbx/CrTi/c/GlassSubstrate制备硬盘磁记录介质.实验结果表明:此种薄膜记录介质,即使在室温下溅射,也可得到高速240kA/m的矫顽力;此类薄膜在550℃高温下,经过30min退火后,其矫顽力有较大幅度提高,并在Nb含量为2.4%原子分数)时达到极大值360kA/m此时剩磁比S=0.90,矫顽力矩形比S=0.92,从而制成了适于高密度或超高密度磁记录使用的薄膜介质.并详细分析了在室温条件下溅射,此种介质矫顽力与Nb含量变化的关系;并对退火后介质矫顽力与Nb含量变化的关系也进行了讨论.

【Abstract】 In this paper, we used CoCrPtNb as magnetic layer media and prepared multilayer structure C /(CoCrPt)100-xNbx/ CrTi/C / glass substrate hard disk recording media using glass substrate as recording media. This result reveals that coercivity Hc of this type of films can reach 3000Oe. The sputtered sample was annealed for 30 minutes at 550℃ under the vacuum condition, the coercivity increased abruptly and reached maximum value of 4500 Oe at 2.4 at. %. At the same time, S and S* is 0.90 and 0.92, respectively. So the film can be used for high-density or ultrahigh-density magnetic recording. We analyzed the effect of Nb content on properties of thin film at sputtering and discussed those at annealed.

【基金】 湖北省自然科学基金资助项目(2002AB032);教育部博士学科点基金资助项目(20010487021)
  • 【会议录名称】 第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅰ
  • 【会议名称】第五届中国功能材料及其应用学术会议
  • 【会议时间】2004-09
  • 【会议地点】中国北京·秦皇岛
  • 【分类号】TQ584
  • 【主办单位】国家仪表功能材料工程技术研究中心、国家“863”计划新材料领域专家委员会、中国仪器仪表学会仪表材料学会、中国金属学会、中国稀土学会、中国复合材料学会、中国有色金属学会、重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、包头稀土研究院、钢铁研究总院、北京工业大学、燕山大学、山东大学、云南大学、上海交通大学、华中科技大学、天津大学、四川大学、湖南大学、大连理工大学、南京大学、清华大学、西南师范大学、北京科技大学、北京大学、厦门大学、中南大学、电子科技大学、重庆大学、福州大学、吉林大学、哈尔滨工业大学、武汉大学、西安理工大学、北京交通大学、西北工业大学、苏州大学、东北大学、复旦大学、武汉理工大学、浙江大学、北京理工大学、北京航空航天大学、中国科技大学、西南交通大学、南开大学、《功能材料与器件学报》编辑部、《功能材料》编辑部
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