【作者】 殷景华； 蔡伟； 王明光； 李美成； 赵连城；

【Author】 YIN Jing-hua;CAI Wei;WANG Ming-guang;LI Mei-cheng;ZHAO Lian-cheng Harbin Science and Technology University Appled Science College, Harbin, 150080, China Harbin Institute of Technology Material Sciencc and Engineering College, Harbin, 150001, China Chinese Academy of Sciences, Institute of Metal Research, Atomic Image Laboratory,Shenyang, 110015, China

【机构】 哈尔滨理工大学应用科学学院； 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院； 中国科学院沈阳金属研究所固体原子像实验室；

【摘要】 金属硅化物的制备方法和工艺条件对硅化物的形成及分布有显著的影响,从而影响其显微结构.本文采用高分辨电镜观察薄膜的界面结构,研究结果表明,溅射方法制备的PtSi/p-Si异质薄膜分为三种典型结构:单层薄膜、多层薄膜和岛状薄膜,并分析了各自的特征.更多还原

【Abstract】 The influence of papared methods of metal silicides and technological conditions on the formation anddistribution of silicides and their microstructure. In this paper, HREM observation show that there are three typesstructure of PtSi/p-Si films with different technological conditions: single layer films, multi-layer films and island-likefilms and we discuss their features.更多还原