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Ge-SiO2纳米颗粒镶嵌薄膜的非线性光吸收研究

A Study of the Nonlinear Absorption of Ge—SiO2 Thin Films

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【作者】 岳兰平何怡贞高晓明

【Author】 Yue Lanping He Yizhen Gao Xiaoming~+ (Institute of Solid State Physics,Academia Sinica,Hefei,230031,China) (+Anhui Institute of Optics and Fine Mechanics,Academia Sinica,Hefei,230031,China)

【机构】 中国科学院固体物理研究所中科院安微光学精密机械研究所

【摘要】 本文采用Z扫描技术和非线性透过率技术研究了Ge—SiO2纳米颗粒镶嵌薄膜的三阶非线性光吸收。实验结果表明,Ge—SiO2纳米颗粒镶嵌薄膜在较低功率激光激发下,存在着较强的双光子吸收效应。

【Abstract】 Nonlinear effect of optical absorption of Ge nano-crystallites embedded in SiO2 thin films has been studied.The results show that enhanced optical nonlinearity is dominated by the two-photon absorption effects in these Ge-SiO2 thin films.

  • 【会议录名称】 第二届中国功能材料及其应用学术会议论文集
  • 【会议名称】第二届中国功能材料及其应用学术会议
  • 【会议时间】1995-10-23
  • 【会议地点】中国四川成都
  • 【分类号】O484
  • 【主办单位】中国仪器仪表学会仪表材料学会、中国金属学会材料科学学会、中国物理学会发光分会、中国光学学会薄膜专业委员会、机械工业部重庆仪表材料研究所、《功能材料》编辑部、大连理工大学、中国科技大学、北京科技大学、吉林大学、东北大学、中国科学院上海冶金研究所、中国科学院半导体研究所、北京大学、清华大学、南京大学、华中理工大学、武汉工业大学、电子科技大学、四川联合大学、西北工业大学、北京工业大学、东南大学、青岛化工学院、北京航空航天大学、山东工业大学
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