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Ni—P薄膜中磷的不均匀性研究
【机构】 华中理工大学机二系；
【摘要】 <正>1前言随着电子、电器设备的日益增多,电磁干扰(EMI)和无线电频率干扰(RFI)日趋严重,极大地影响了电子产品的正常工作,为此必须采取相应的屏蔽措施。化学镀Ni—P合金是一种质优价廉的屏蔽材料,有广阔的应用前景。当Ni—P薄膜中的磷含量在3%左右时屏蔽效果最好,然而随着含磷量的增加其屏蔽效果降低。故深入研究Ni—P薄膜中磷的分布及影响因素对确保其屏蔽性能是非常必要的。
- 【会议录名称】 首届中国功能材料及其应用学术会议论文集
- 【会议名称】首届中国功能材料及其应用学术会议
- 【会议时间】1992-10-26
- 【会议地点】中国广西桂林
- 【分类号】TB383.2
- 【主办单位】中国仪器仪表学会仪表材料学会、八六三计划新材料领域功能材料专家组、中国材料研究学会（CMRS）、中国电子学会电子材料学学会、中国金属学会材料科学学会、中国物理学会发光分会、中国光学学会光学材料专业委员会、机电部重庆仪表材料研究所、《功能材料》编辑部