单晶YBCuO超导薄膜的临界电流和磁通钉扎特点

【作者】 崔长庚； 李山林； 景秀年； C.C.Lam； C.T.Tang； P.C.Fung； 杨秉川； 王小平；

【机构】 中国科学院物理研究所； 香港城市理工学院应用科学系； 香港大学物理系； 北京有色金属研究总院；

【摘要】 <正>1前言高温氧化物超导体在强电磁场以及低温电子学方面有重要的应用前景,因此自从高温超导体发现以来,世界各国都竞相研究并特别重视其开发应用。目前制备的YBaCuO超导薄膜取向性好,临界电流密度高,因此研究这种样品的超导性能,对于了解高温超导体的磁通特点,改进体材料的性能以及在发展此薄膜材料的应用方面都很有意义。我们使用磁控溅射方法制备出高性能的YBaCuO单晶薄膜,测量了在0—7T磁场下、温度范围从64K—79K的临界电流密度,分析了其磁通钉扎特点,结果表明此种样品磁通钉扎力特点符合Kramer标度定律。更多还原