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PECVD聚合胺基功能薄膜的研究
Growth of Amine-containing Functional Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
【Author】 Wenjuan Hu Fenyan Xie Qiang Chen Huiping Cai (Laboratry of Plasma Physics and Materials,Beijing Institute of Graphic Communication,Beijing,China,102600)
【机构】 北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室;
【摘要】 本文采用平板式电容耦合射频(RF,13.56MHz)等离子体源,以丙烯胺(allylamine)为聚合单体,氩气为辅助气体,沉积含胺基的功能薄膜。实验研究了等离子体放电功率对聚合物表面结构、稳定性和功能团含量等的影响。利用傅立叶变换红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)和视频光学接触角测量仪(DSA100),对同一条件下聚合胺基薄膜的结构、成分进行了细致的分析。结论是:等离子体PECVD方法能有效的聚合富含胺基的薄膜,且胺基的含量随功率增加而增大,一定范围内,功率越大,薄膜的化学结构与单体更相近,功能团密度越多,而且制备的薄膜的稳定性较好。
【Abstract】 Using allylamine monomer,amine-containing functional films are prepared by plasma-enhanced vapor chemical deposition (PECVD).We explore the influences of the applied power on the film properties.The structure of coatings,deposited under the same conditions,is analyzed by Fourier transform infrared (FTIR) spectroscopy,X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) as well as water contact angle (WCA).The conclusions show that plasma -enhanced vapor chemical deposition (PECVD) can polymerize rich amine-containing functional films with good stability,and the discharge power has great influences on the film properties.
- 【会议录名称】 第七届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛论文集(二)
- 【会议名称】第七届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛
- 【会议时间】2008-10
- 【会议地点】中国湖北武汉
- 【分类号】TB383.2
- 【主办单位】中国机械工程学会表面工程分会