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磁控溅射法制备ZrW2O8/Cu梯度薄膜

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【作者】 程晓农； 宋娟； 严学华；

【机构】 江苏大学材料科学与工程学院；

【摘要】 <正>本研究的目的是使 ZrW2O8/Cu 梯度薄膜能够应用于微电子集成电路中的互连线。在单晶硅基片上用磁控溅射法,通过连续改变金属靶和陶瓷靶的功率参数,制备得到了 ZrW2O8/Cu 梯度薄膜。由于基片温度为室温,所得薄膜为非晶态。经快

  • 【会议录名称】 《硅酸盐学报》创刊50周年暨中国硅酸盐学会2007年学术年会论文摘要集
  • 【会议名称】《硅酸盐学报》创刊50周年暨中国硅酸盐学会2007年学术年会
  • 【会议时间】2007-08
  • 【会议地点】中国北京
  • 【分类号】O614.412
  • 【主办单位】中国硅酸盐学会
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