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Bi：YIG纳米薄膜的磁光特性

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【作者】 杨青慧； 张怀武； 刘颖力； 文岐业；

【机构】 电子科技大学电子薄膜与集成器件重点实验室；

【摘要】 <正>本文利用射频磁控溅射和快速退火方法制备了纳米量级的 Bi：YIG 薄膜,并研究了薄膜的磁光特性。其中当晶粒尺寸从 150nm 降到80nm 时,透射率和 Faraday 角的值分别从75%和3．6度变成了80%和4．0度。在此分析基础之上,结果表明：

  • 【会议录名称】 《硅酸盐学报》创刊50周年暨中国硅酸盐学会2007年学术年会论文摘要集
  • 【会议名称】《硅酸盐学报》创刊50周年暨中国硅酸盐学会2007年学术年会
  • 【会议时间】2007-08
  • 【会议地点】中国北京
  • 【分类号】O611.3
  • 【主办单位】中国硅酸盐学会
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