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溶胶-凝胶法制备高透紫外二氧化硅玻璃体材料的研究
【作者】 李毅刚； 何子安； 汤恒晟； 刘丽英； 徐雷； 王文澄；
【机构】 先进光子学材料与器件国家重点实验室复旦大学信息学院光科学与工程系；
【摘要】 <正> 半导体工业在40多年时间里奇迹般的始终遵循着摩尔定律,芯片集成度每18个月翻一番,器件尺寸每三年缩小0.7倍。目前采用193 nm光源的光刻技术已经商品化,157 nm光刻技术将是下一代的技术。针对157 nm光刻要求的光学材料研究成为热点,这些材料包括透镜、棱镜、掩膜板等。石英玻璃直到193 nm光刻仍然是不可替代的材料,但对157 nm则存在较强的吸收。虽然在这个区域透明的待选材料有CaF2、MgF2等晶体材料,但是它们
【基金】 国家自然科学基金
- 【会议录名称】 全国第三届溶胶—凝胶科学技术学术会议论文摘要集
- 【会议名称】全国第三届溶胶—凝胶科学技术学术会议
- 【会议时间】2004
- 【会议地点】中国杭州
- 【分类号】TQ171.7
- 【主办单位】中国硅酸盐学会玻璃分会、中国硅酸盐学会特种陶瓷分会、中国硅酸盐学会特种玻璃分会、中国光学学会光学材料分会、浙江大学