基片种类及梯度烧成对PZT薄膜表面形貌的影响

【作者】 郝俊杰； 李龙土； 徐廷献；

【机构】 清华大学材料科学与工程系； 天津大学材料科学与工程系；

【摘要】 <正>铁电薄膜材料具有优良的铁电、压电特性,在光电子技术和其它高新技术领域中有着重要的应用前景。随着电子技术的发展,铁电薄膜的制备方法和应用技术也逐渐成熟。通常的制膜方法有溅射法、电子束蒸发法、化学气相沉积法等。以上方法需要昂贵的真空设备。而sol-gel法简单快速,具有以上真空沉积法所没有的优点,即组分易控制、均匀性好、易于制备大面积薄膜和微量掺杂等。针对sol-gel法制备薄膜容易开裂这一问题,研究了Pt/单晶硅基片和氧化铝基片对PZT薄膜更多还原