真空镀膜技术进展

【作者】 王福贞；

【机构】 北京联合大学机电学院；

【摘要】 高新技术、国防事业、高端加工产业的发展以及人民生活水平的提高,要求越来越多的、优质的、具有各种特殊功能的薄膜材料,因此,促进了薄膜材料制备技术飞速的发展。真空镀膜技术已经成为生产高精尖产品的关键技术。近些年真空镀膜技术发展很快。膜层粒子来源于气态物质源和固态物质源;镀膜过程的能量由利用热能向利用气体放电等离子体能量发展;在利用等离子体能量的镀膜技术中,放电方式由辉光放电向弧光放电发展;镀膜过程中采用同轴电磁场、正交电磁场和交流电源激励气体放电,获得更多的金属离子和气体离子,提高膜层粒子的整体能量。可以改善膜层组织、晶体结构和膜层性能,可以在低温下获得各种特种功能的薄膜材料。本文介绍了真空镀膜技术的新进展。更多还原