【作者】 王贺权； 王志坚； 巴德纯； 沈辉； 闻立时； 李运强；

【Author】 WANG He-quan~1 WANG Zhi-jian~1 BA De-chun~2 SHEN Hui~3 WEN Li-shi~4 LIYun-qiang~5 (1.Shenyan Institute of Aeronautical Engineering,Shenyang 110034,China;2.Northeastern University,Shenyang 110004,China;3.SunYAT-SEN University,Guangzhou 510275,China;4.Institute of Metal Research Chinese Academy of Sciences,Shenyang 110016,China;5.Shenyang Gas Company Limited 110005,China)

【机构】 沈阳航空工业学院； 东北大学； 中山大学； 中国科学院金属研究所； 沈阳燃气有限公司；

【摘要】 应用溶胶凝胶和磁控溅射方法制备TiO₂/TiO₂双层减反射薄膜。当TiO₂溶胶凝胶薄膜的制备参数不变时,研究了TiO₂薄膜的磁控溅射制备参数对双层减反射薄膜反射率的影响。结果表明,在温度为120℃,靶基距为190mm,氧流量为15sccm,总气压为8×10^-1Pa的条件下获得的TiO₂薄膜与TiO₂溶胶凝胶薄膜匹配制成的双层减反射薄膜减反射效果最佳。更多还原

【Abstract】 TiO₂/TiO₂ double layers anti-reflection films have been grown by magnetron sputtering and sol-gel process.The effect of parameters of the TiO₂ grown by magnetron sputtering on reflectivity of double TiO₂/TiO₂ films was studied when the parameters of the TiO₂ grown by sol- gel didn’t chang.The best anti-reflectance property of TiO₂/TiO₂ double layers could be acquired under the temperature=120℃、total gas pressure=8×10^-1Pa、O₂=15sccm.substrate-to-target= 190mm of TiO₂ film grown by magnetron sputtering.更多还原