【作者】 陈秋云； 赖新春； 黄火根； 罗丽珠； 蒋春丽； 谭世勇；

【Author】 CHEN Qiu-yun LAI Xin-chun HUANG Huo-gen LUO Li-zhu JIANG Chun-li TAN Shi-yong (National Key Laboratory for Surface Physics and Chemistry,P.O.Box 718-35,Mianyang,Sichuan,P.R. China)

【机构】 表面物理与化学国家重点实验室；

【摘要】 利用高真空磁控溅射法制备了铀薄膜,通过扫描电子显微镜(SEM)对制得薄膜的表面形貌进行观察,利用X射线光电子能谱仪(XPS)及X射线衍射仪(XRD)对薄膜的表面结构及表面元素状态进行分析和表征。结果表明该法制得的U薄膜比较致密、连续。更多还原

【Abstract】 Uranium thin films were prepared by high vacumm magnetron-sputtering method.Surface morphology of U thin films were observed by SEM.The surface structure and element conditions were analysed and characterized by XPS and XRD.The results show that uranium thin films are very dense and continous.更多还原