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磁控溅射制备SiO2/TiO2双层减反射薄膜的研究
Study on Double Layers Anti-Reflection Coating of SiO2/TiO2 by Magnetron Sputtering
【作者】 王贺权； 王志坚； 巴德纯； 沈辉； 闻立时； 李运强；
【Author】 WANG He-quan~1 WANG Zhi-jian~1 BA De-chun~2 SHEN Hui~3 WEN Li-shi~4 LI Yun-qiang~5 (1.Shenyan Institute of Aeronautical Engineering,Shenyang 110034,China) (2.Northeastern University,Shenyang 110004,China) (3.SunYAT-SEN University,Guangzhou 510275,China) (4.Institute of Metal Research Chinese Academy of Sciences,Shenyang 110016,China) (5.Shenyang Gas Company Limited 110005;China)
【机构】 沈阳航空工业学院； 东北大学； 中山大学； 中国科学院金属研究所； 沈阳燃气有限公司；
【摘要】 应用磁控溅射设备制备SiO2/TiO2双层减反射薄膜。当SiO2薄膜的制备参数不变时,研究了TiO2薄膜的制备参数对双层减反射薄膜反射率的影响。结果表明,在常温,靶基距为190nm,氧流量为15sccm,总气压为4×10-1Pa的条件下获得的TiO2薄膜与SiO2薄膜匹配制成的双层减反射薄膜减反射效果最佳。
【Abstract】 SiO2/TiO2 double layers anti-reflection films have been grown by magnetron sputtering.The effect of parameters of the TiO2 on reflectivity of double SiO2/TiO2 films was studied when the parameters of the SiO2 film didn’t chang.The best anti-reflectance property of SiO2/TiO2 double layers could be acquired under the temperature being room temperature,total gas pressure=4×10-1Pa,O2=15sccm, substrate-to-target=190mm of TiO2 film.
【Key words】 Magnetron Sputtering； SiO2/TiO2； Double Layer Anti-Reflection Coating； Reflectivity；
- 【会议录名称】 第九届真空冶金与表面工程学术会议论文摘要集
- 【会议名称】第九届真空冶金与表面工程学术会议
- 【会议时间】2009-08-24
- 【会议地点】中国辽宁沈阳
- 【分类号】TB383.2
- 【主办单位】中国真空学会真空冶金专业委员会（Vacuum Metallurgy Committee of Chinese Vacuum Society）、沈阳市真空学会（ShenYang Vacuum Society）