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基于Atemga128的磁控溅射镀膜机

Design of sputtering vacuum machine based on the Atemga128

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【作者】 刘艳涛马剑平

【Author】 LIU Yan-tao MA Jian-ping (Xi’an University of Technology Institute of Automation,710048)

【机构】 西安理工大学自动化学院

【摘要】 介绍应用于石英晶体谐振器制造的双靶真空镀膜机,以Atemga128单片机为核心,与上位机进行数据传递,真空镀膜包括真空获得、电离清洗、磁控溅射等工艺过程,可实现多种金属电极的镀膜要求,并实现谐振器的制造工艺要求。

【Abstract】 Introduce double-target sputtering vacuum machine,it’used in the manufacturing of quartz crystal, MCU as the core to Atemga128 with the host computer for data transmission,is designed to obtain a vacuum, ionization cleansing,magnetron sputtering process control.The sputtering vacuum machine to achieve a variety of metal electrode manufacture requirements,and the realization of quartz resonator manufacturing process requirements.

【关键词】 磁控溅射真空ATmega128
【Key words】 Magnetron sputteringVacuumATmega128
  • 【会议录名称】 第九届真空冶金与表面工程学术会议论文摘要集
  • 【会议名称】第九届真空冶金与表面工程学术会议
  • 【会议时间】2009-08-24
  • 【会议地点】中国辽宁沈阳
  • 【分类号】TB43
  • 【主办单位】中国真空学会真空冶金专业委员会(Vacuum Metallurgy Committee of Chinese Vacuum Society)、沈阳市真空学会(ShenYang Vacuum Society)
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