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磁控溅射制备W-Al2O3太阳能选择性吸收涂层

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【作者】 李剑锋周福云刘刚王兆松李国卿

【机构】 大连交通大学东莞康达机电公司大连理工大学

【摘要】 <正>采用全封闭磁场非平衡磁控溅射技术,制备金属W、金属/氧化物Al2O3共生涂层、Al2O3陶瓷减反射涂层的新型膜系。采用椭偏仪和Bruggeman理论计算确定各个膜层的光学特性(折射率和消光系数),测量吸收系数和发射率,应用TFC光学薄膜设计程序设计新型膜系,采用

【关键词】 太阳能涂层W-Al2O3磁控溅射
  • 【会议录名称】 TFC’09全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集
  • 【会议名称】TFC’09全国薄膜技术学术研讨会
  • 【会议时间】2009-08-15
  • 【会议地点】中国四川成都
  • 【分类号】TB383.2
  • 【主办单位】中国真空学会薄膜专业委员会
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