光辅助MOCVD法制备Y₂O₃薄膜及其结晶性质分析

【作者】 李伟； 李天天； 李善文； 李国兴； 董鑫； 李万程； 周本初； 张宝林；

【机构】 集成光电子学国家重点联合实验室,吉林大学电子科学与工程学院；

【摘要】 <正>三氧化二钇（Y₂O₃）具有优良的物理和化学性能,Y₂O₃薄膜是倍受关注的高温涂层材料,如它具有很好的高温阻碳阻氧功能。Y₂O₃薄膜晶粒排列的微观状态是影响其实用性能的一个重要因素。本文采用光辅助MOCVD法,使用不同的衬底温度（T_s=500、600、700℃）,在抛光的316L不锈钢衬底（316L）上成功制备了Y₂O₃薄膜,并对薄膜的制备工艺、晶体质量及表面形貌进行了分析和研究。通过对全部样品进行扫描电子显微镜（SEM）观测和XRD-2theta扫描测试,结果表明:在较低温度条件下制备的Y₂O₃薄膜为非晶态,如图1-a和2-a所示（T_s=500℃）;较高温度条件下Y₂O₃薄膜为多晶态,但晶粒排列没有明更多还原