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膜去溶-微柱分离-ICP-MS联用技术应用于氧化铈纯度分析的研究
【机构】 北京有色金属研究总院；
【摘要】 针对氧化铈稀土相对纯度ICP-MS测定中遇到的多原子离子干扰问题,本文借鉴了膜去溶技术在去除溶剂成分的独特优势,将其与ICP-MS联用,降低氧化铈基体的氢化物、氢氧化物干扰,成功测定了La、Pr、Gd,测定下限分别达0.1、0.2、0.3 ug/g;采用微型柱分离技术将Ce基体与Tb杂质分离后,用ICP-MS测定Tb,测定下限为0.6 ug/g;其余稀土杂质采用ICP-MS直接测定。采用以上三种技术手段共同测定氧化铈纯度,达99.9997%,实际样品分析相对标准偏差在0.6%～10.0%。
- 【会议录名称】 全国有色金属理化检验学术报告会论文集
- 【会议名称】全国有色金属理化检验学术报告会
- 【会议时间】2011-10-19
- 【会议地点】中国贵州贵阳
- 【分类号】TG115.3
- 【主办单位】中国有色金属学会理化检验学术委员会、中国稀土学会理化检验学术委员会