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USP法制备p型Zn1-xMgxO薄膜的初步研究
BASIC RESEARCH OF P TYPE Zn1-xMgxO THIN FILM BY ULTRASONIC SPRAY PYROLYSIS
【作者】 边楠; 张晓丹; 张霞; 孙福和; 杨瑞霞; 赵颖;
【Author】 Bian Nan,Zhang Xiaodan,Zhang Xia,Sun Fuhe,Yang Ruixia,Zhao Ying (1.Institute of Photo-electronic Thin Film Device and Technique of Nankai University,Key Laboratory of Photo-electronics Thin Film Devices and Technique of Tianjin,Key Laboratory of Photo-electronic Information Science and Technology(Nankai University,Tianjin University),Tianjin 300071,China; 2.College of Information Engineering,Hebei University of Technology,Tianjin 300130,China)
【机构】 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学); 河北工业大学信息学院;
【摘要】 利用超声雾化热分解技术(USP),在eagle2000衬底上采用用N-Al共掺法获得了p型Zn1-xMgxO薄膜,在Al掺入比例为0.05时获得了最优的p型Zn1-xMgxO薄膜,其电学特性为电阻率为18.43Ω.cm、迁移率是0.362 cm2/(V.s)、载流子浓度为1.24×1018cm-3。并尝试与FTO薄膜结合生成FTO/p-Zn1-xMgxO复合薄膜,应用于微晶硅薄膜电池前电极。
- 【会议录名称】 第十届中国太阳能光伏会议论文集:迎接光伏发电新时代
- 【会议名称】第十届中国太阳能光伏会议
- 【会议时间】2008-09-19
- 【会议地点】中国江苏常州
- 【分类号】TM914
- 【主办单位】中国可再生能源学会、江苏省常州市人民政府、中国可再生能源学会太阳能光伏专委会