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氧氩比对本征氧化锌薄膜结构及表面形貌的影响
Effect of O2/（O2+Ar） ratio on the structure and surface morphology of i-ZnO thin film
【Author】 Ouyang Zidian,Zhang Zhian,Lai Yanqing,Lijie,Liu Yexiang (The College of metallurgy science and engineering,Central South University,Changsha 410012,China)
【机构】 中南大学冶金科学与工程学院；
【摘要】 采用RF磁控溅射方法在玻璃衬底上制备本征ZnO（i-ZnO）薄膜,利用XRD和SEM研究了氧氩比（O2/（O2+Ar））对薄膜结构性能及表面形貌的影响,结果表明,O2/（O2+Ar）比对i-ZnO薄膜的结构性能的影响十分显著,随着, O2/（O2+Ar）比的升高,薄膜的结晶性能呈现出了规律性的变化,在,O2/（O2+Ar）比为20%时,薄膜的c轴取向最好,晶面间距最接近标准i-ZnO晶面间距（0.2603nm）,晶粒尺寸最大,为5 1.75nm。i-ZnO薄膜表面形貌随着O2/（O2+Ar）比的增加变得致密,平滑。
- 【会议录名称】 第十届中国太阳能光伏会议论文集：迎接光伏发电新时代
- 【会议名称】第十届中国太阳能光伏会议
- 【会议时间】2008-09-19
- 【会议地点】中国江苏常州
- 【分类号】TN304.21
- 【主办单位】中国可再生能源学会、江苏省常州市人民政府、中国可再生能源学会太阳能光伏专委会