节点文献
纳米球刻蚀胶体模板的热改性研究
Thermal Modification of Colloidal Masks for Nanosphere lithography
【Author】 Chong Geng,Qingfeng Yan ,Guangqiu Shen,Xiaoqing Wang,Dezhong Shen Department of Chemistry,Tsinghua University,Beijing,100084
【机构】 清华大学化学系；
【摘要】 <正>纳米球刻蚀是一种利用化学自组装胶体晶体单层作为掩膜的一种低成本且快速制备有序纳米结构的技术,在微纳米加工中备受关注。本文介绍了一种调节聚合物纳米微球间隙的方法。利用扫描电镜(SEM)对聚
- 【会议录名称】 中国化学会第28届学术年会第4分会场摘要集
- 【会议名称】中国化学会第28届学术年会
- 【会议时间】2012-04-13
- 【会议地点】中国四川成都
- 【分类号】TB383.1
- 【主办单位】中国化学会