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CTAB/HF/HNO3构建硅基超疏水表面

Fabrication Of Superhydrophobic Surfaces On Silicon Substrates by CTAB/HF/HNO3

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【作者】 潘立宁董慧茹毕鹏禹

【Author】 Li-Ning Pan, Hui-Ru Dong*, Peng-Yu Bi Faculty of Science, Beijing University of Chemical Technology, 100029, Beijing

【机构】 北京化工大学理学院

【摘要】 <正>采用含有十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)的HF/HNO3混合溶液刻蚀硅片表面,在硅片表面上得到了刻蚀坑与沟槽共存的双层粗糙度相结合的阶层结构,该表面经硅烷化处理后

【关键词】 超疏水化学刻蚀构建
  • 【会议录名称】 中国化学会第27届学术年会第04分会场摘要集
  • 【会议名称】中国化学会第27届学术年会
  • 【会议时间】2010-06-20
  • 【会议地点】中国福建厦门
  • 【分类号】O647.1
  • 【主办单位】中国化学会
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