极紫外Mo/Si周期多层膜反射相移研究

【作者】 王风丽； 刘磊； 蒋励； 段伟； 李文斌； 朱京涛； 张众； 王占山； 周洪军； 霍同林；

【机构】 同济大学物理系,先进微结构材料教育部重点实验室； 中国科技大学国家同步辐射实验室；

【摘要】 极紫外Mo/Si多层膜反射镜在极紫外光刻、亚飞秒激光脉冲、同步辐射、天文观测等研究领域具有广泛的应用。多层膜反射镜反射相移的精确调控和表征是极紫外光刻、亚飞秒激光脉冲发展的瓶颈技术之一。本文采用合肥同步辐射反射计装置先后测量了磁控溅射方法制作的Mo/Si周期多层膜反射镜的反射率和全电子产额,经拟合分析获得了Mo/Si周期多层膜反射镜的反射相移信息,初步构建了多层膜反射镜的反射相移实验装置,为今后研制亚飞秒啁啾多层膜反射镜和极紫外光刻用多层膜反射镜奠定了重要的实验基础。更多还原