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TM光束在单层弱吸收Ⅱ型界面上反射时的纵向位移
The Longitudinal shift of TM Beam Reflected from a Single Layer Weakly Absorbing Type-ⅡInterface
【Author】 Zhang Peikun~(1,2) He Qingsheng~2 Zhang Jiyue~3 1 Xidian University Shaanxi Xian 710071 2 Tsinghua University State Key Lab Precis Measurement Technol & Instru Beijing 100068 3 Northwest University Shaanxi Xian 710069
【机构】 西安电子科技大学理学院; 清华大学精密测试技术及仪器国家重点实验室; 西北大学;
【摘要】 提出了单层弱吸收Ⅱ型界面的一种构型,分析了TM偏振的平行光束在这种界面上反射时的纵向位移,并进行了计算。结果表明,存在着一个临界角,当入射角小于临界角时,其纵向位移先随入射角的增大而增大,然后随入射角的增大而减小;当入射角大于临界角时,纵向位移则随入射角的增大而减小。此外,还分析了纵向位移随介质层的厚度的变化情形。
【Abstract】 Single layer weakly absorbing type-Ⅱinterface is proposed,and the longitudinal shift of the TM-polarized light beam reflected from this kind of interface is investigated and calculated.It shows that there exists a critical angle and the longitudinal shift increases with the incident angle increasing when the incident angle is smaller than the critical angle.However,the longitudinal shift decreases with the incident angle increasing when the incident angle is larger than the critical angle.Moreover,the longitudinal shift changing with other parameters is investigated.
【Key words】 TM beam; weakly absorbed interface; reflection; longitudinal shift;
- 【会议录名称】 数学·力学·物理学·高新技术交叉研究进展——2010(13)卷
- 【会议名称】中国数学力学物理学高新技术交叉研究学会第十三届学术年会
- 【会议时间】2010-08-01
- 【会议地点】中国甘肃敦煌、加拿大蒙特利尔
- 【分类号】O436.3
- 【主办单位】中国数学力学物理学高新技术交叉研究学会