【作者】 叶超；

【机构】 苏州大学；

【摘要】 采用四极质谱和发射光谱技术研究了DMCPS/CHF₃电子回旋共振（ECR）等离子体沉积F-SiCOH低介电常数薄膜的等离子体特性及其与薄膜沉积的关联。在ECR放电等离子体中,十甲基环五硅氧烷分子（DMCPS）分解主要产生SiOC₂H₂、SiOCH₃、SiCH₃、SiO、Si、O、CH₃、CH₂、CH、C、H基团,三氟甲烷（CHF₃）分解主要产生CHF₂、CF₃、F基团,等离子体中活性基团的复合生成了HF、C₂H₂、C₂H₃、C₂H₄、C₂H₅、C₂、H₂、SiH₂、SiF₃、SiF₂、SiF基团。与Si相关和与CH相关的基团通过在基片上的吸附形成了SiCOH薄膜,而与F相关的基团不仅可以形成F-SiCOH薄膜,还可以通过Si与F之间的反应刻蚀SiCOH薄膜。这种薄膜沉积与刻蚀之间的竞争导致了薄膜结构从SiCOH薄膜向Si掺杂的COF薄膜、进一步向COF薄膜转变。更多还原