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改变旋涂速率制备有序介孔SiO2薄膜结构的正电子湮没和X射线反射率技术表征
【作者】 张鹏； 秦秀波； 马敏阳； 于润升； 贾全杰； 王宝义； 魏龙；
【机构】 中国科学院高能物理研究所核分析技术重点实验室； 郑州大学物理工程学院；
【摘要】 本工作采用溶胶-凝胶法通过改变旋涂速率制备具有二维六角和三维立方结构的介孔SiO2薄膜,并通过慢正电子湮没技术以及同步辐射小角X射线反射率研究其介孔结构随旋涂速率的变化。
【关键词】 介孔SiO2薄膜；
正电子湮没多普勒展宽能谱；
X射线反射率；
溶胶-凝胶法；
- 【会议录名称】 第十届全国正电子湮没谱学会议论文集
- 【会议名称】第十届全国正电子湮没谱学会议
- 【会议时间】2009-11-01
- 【会议地点】中国广西南宁
- 【分类号】TN304
- 【主办单位】中国科学院核分析技术重点实验室、广西大学物理科学与工程技术学院