节点文献
ZnO/M/ZnO金属介质多层膜的慢正电子研究
【机构】 中国科学技术大学近代物理系； 中国电力投资公司高级培训中心；
【摘要】 由脉冲激光沉积法制备了一系列ZnO/Cu/ZnO和ZnO/Al/ZnO金属介质多层透明导电膜。样品的形貌和结晶状态通过了扫描电子显微镜和X射线衍射法来获得。同时还使用了慢正电子注入谱来分析样品的微结构。中间金属介质层比较薄的样品在退火后,其S-E曲线的变化规律与其他样品有着明显的不同。结晶性质,金属与ZnO的相互扩散及金属层的团聚等因素都影响着多层膜的光电性质。合适的退火条件能使多层膜质量提高从而获得低电阻率及高光透过率的多层透明导电膜。
- 【会议录名称】 第十届全国正电子湮没谱学会议论文集
- 【会议名称】第十届全国正电子湮没谱学会议
- 【会议时间】2009-11-01
- 【会议地点】中国广西南宁
- 【分类号】O484.4
- 【主办单位】中国科学院核分析技术重点实验室、广西大学物理科学与工程技术学院