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电化学原位红外反射光谱中薄层电解池厚度的干涉条纹法研究
Study of the Thickness of Thin Layer Cell for in-situ IR Spectroscopy through Interference Fringe Method
【Author】 SU Zhang-fei,CHEN You-jiang,ZHOU Zhi-you,LI Jun-tao,SUN Shi-gang~* State Key Laboratory for Physical Chemistry of the Solid Surface,Department of Chemistry,Xiamen University,Xiamen 361005, China
【机构】 厦门大学化学系,固体表面物理化学国家重点实验室;
【摘要】 应用干涉条丝毫法测量电化学原位红外反射光谱中薄层电解池的厚度以及实际研究体系中红外光谱信噪比随液层厚度的变化。研究结果表明,要进行红外检测,液层厚度必须小于60μm;而在实际研究体系中,液层厚度一般要在10μm以内。
【Abstract】 In this paper,the interference fringe method was used to measure the solution layer thickness between electrode and IR window in the in-situ reflection IR cell.The results demonstrate that in the infrared experiment the solution layer thickness should be less than 60μm.However,in practical research system,the solution layer thickness is generally less than 10μm.
- 【会议录名称】 全国第13届分子光谱学术报告会论文集
- 【会议名称】全国第13届分子光谱学术报告会
- 【会议时间】2004-11-19
- 【会议地点】中国福建厦门
- 【分类号】O657.3;TN219
- 【主办单位】中国化学学会物理化学委员会、中国光学会光谱委员会