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光刻机照明系统偏振态测量装置
【机构】 中国科学院上海光学精密机械研究所；
【摘要】 <正>半导体前道光刻技术,采用氟化氩激光和浸液技术(ArFi)、偏振照明技术、并与多重曝光技术相结合,目前已经实现2Xnm~1Xnm节点的量产,其中偏振照明技术是浸液光刻机必备的、关键的分辨率增强技术(RET)。照明光的振动方向、偏振度、偏振纯度、偏振强度等参数对实现各种不同图形的精确曝光至关重要,必须对照明光的各种偏振参数进行精确控制,而高精度偏振态检测是高精度偏振态控制的前提。对浸液光刻机的整个生命周期(从制造集成过程、到正常生产、到定期维修
- 【会议录名称】 第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集
- 【会议名称】第十五届全国光学测试学术交流会
- 【会议时间】2014-10-26
- 【会议地点】中国江西南昌
- 【分类号】TN305.7
- 【主办单位】中国光学学会光学测试专业委员会