He-Ne散射探测用于ArF激光损伤在线判别

【作者】 邓文渊； 金春水；

【机构】 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室；

【摘要】 <正>光学薄膜元件损伤是制约ArF准分子激光光学系统应用的主要因素之一,光学薄膜元件的损伤研究具有重要意义。相比相衬干涉显微镜法和等离子体闪光法等光学元件损伤常用判定方法,散射光探测法具有快速准确、实时在线的优点。图l是利用He-Ne激光散射探测ArF激光光学元件损伤装置示意图。利用Labview控制程序和信号发生器实现两个系统之间的同步和整个损伤探测流程。He-Ne散射光弱信号利用光电探测器探测,并进行锁相放大器放大进行探测。在损伤测试过程中,当样品出现损伤时,He-Ne散射随即发生变化,因此,通过对比ArF激光脉冲辐射到样品之前后实时监测到的He-Ne散射光信号,可以判定样品是否出现损伤以及损伤的程度。He-Ne散射光的收集决定更多还原