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化学溶液沉积法制备大面积多层外延薄膜的研究

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【作者】 赵勇

【机构】 西南交通大学超导中心

【摘要】 化学溶液沉积法制备大面积外延薄膜在近几年来得到了广泛的重视和应用,特别是在制备高温超导涂层导体中备受关注。与基于真空技术的物理沉积技术相比,化学溶液沉积技术具有成本低廉、化学计量易于控制、化学组分的高度均匀性(可达到分子量级的均匀性),前驱物的选取丰富、制备途径多样性、以及易于大面积制备和生产的优势;同时,也具有微观结构难于控制、外延薄膜的品质较低、制备条件难以精确控制、以及重复性较低等不利因素。本报告报道化学溶液沉积法的最新进展,特别是将化学溶液沉积法用于多层外延薄膜——高温超导涂层导体的制备做了系统的介绍。就前驱有机物的选取、制备过程中的热力学参数控制、成分控制、重复性提高等问题进行了研究,并就化学溶液沉积法制备薄膜过程中的外延生长机理、晶粒取向控制、微观结构控制、临界厚度控制、界面控制,以及连续制备等问题进行了探讨。

  • 【会议录名称】 第七届中国功能材料及其应用学术会议论文集(第7分册)
  • 【会议名称】第七届中国功能材料及其应用学术会议
  • 【会议时间】2010-10-15
  • 【会议地点】中国湖南长沙
  • 【分类号】O484.1
  • 【主办单位】中国仪器仪表学会仪表材料分会、重庆仪表材料研究所、中南大学、《功能材料》期刊社
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