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含硅类金刚石膜的研究进展
The progress of Si-containing diamond-like carbon
【Author】 LIU Can,LAN Hui-qing,WANG Yang (School of Mechanical,Electronic and Control Engineering,Beijing Jiaotong University, Beijing 100044,China)
【机构】 北京交通大学机械与电子控制工程学院;
【摘要】 硅掺杂的类金刚石(Si-DLC)薄膜能明显改善DLC膜在潮湿空气和高温下的性能,具有很好的工业应用前景。评述了含硅类金刚石膜的研究进展,详细介绍了其制备方法,以及含硅量对其微观结构、硬度和摩擦系数的影响及其机理,为今后的研究工作提供参考和依据。
【Abstract】 Si-containing diamond-like carbon(Si-DLC) films can improve wear performance in humid atmospheres and at higher temperature significantly,which has a promising outlook in the industrial application. Therefore,the progress in Si-DLC films is reviewed in this paper.Its deposition techniques,the effect of Si content on the microstructure,hardness and friction coefficient and its mechanisms are introduced in a detail. This is a good reference and basis for the future research works.
- 【会议录名称】 第七届中国功能材料及其应用学术会议论文集(第2分册)
- 【会议名称】第七届中国功能材料及其应用学术会议
- 【会议时间】2010-10-15
- 【会议地点】中国湖南长沙
- 【分类号】O484.4
- 【主办单位】中国仪器仪表学会仪表材料分会、重庆仪表材料研究所、中南大学、《功能材料》期刊社