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Nb注入Ti-48at.%Al合金后稳定化处理对其氧化行为的影响
Influence of Annealing Upon Oxidation Behavior of Nb Implanted Ti-48at.%Al Alloy
【Author】 Li Xiangyang Zhang Tonghe Ma Bengkun (The Institute of Low Energy Nuclear Physics,Beijing Normal University,Beijing,100875,China)
【机构】 北京师范大学低能核物理研究所；
【摘要】 比较了经几种稳定化处理后的离子注入剂量为3×1017ions/cm2Nb的Ti-48at.%Al合金在900℃空气中的恒温氧化行为,用AES分析了稳定化处理前后注入元素Nb在合金基体中的分布情况,用XRD分析确定了恒温氧化后的氧化产物。研究发现:稳定化处理温度的选取是这一工艺的关键因素,经800℃/5h稳定化处理后的离子注入剂量为3×1017 ions/cm2Nb的Ti-48at.%Al合金其抗氧化能力得到了显著改善。
【Abstract】 The isothermal oxidation behavior at 900℃in air environment of Nb-implanted Ti-48at.%Al alloy (dose:3×1017ions/cm2)treated by different post-implantation annealing was compared.The distribution of the implant Nb and the oxidation products were analyzed by AES and SEM respectively.The study illustrated that the annealing temperature was the key parameter and the oxidation resistance of Nb-implanted Ti-48at. %Al alloy after post-implantation annealing treatment at 800℃for 5h was remarkably improved.
【Key words】 ion implantation； γ-TiAl based alloy； high temperature oxidation； annealing treatment；
- 【会议录名称】 第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集
- 【会议名称】第三届中国功能材料及其应用学术会议
- 【会议时间】1998-10-13
- 【会议地点】中国重庆
- 【分类号】TG111
- 【主办单位】中国仪器仪表学会仪表材料分会、中国金属学会功能材料分会、中国化学会、中国物理学会发光分科学会、机械工业部重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、清华大学、中国科技大学、南京大学、吉林大学、东北大学、北京科技大学、天津大学、重庆大学、四川联合大学、电子科技大学、福州大学、北京航空航天大学、湖南大学、大连理工大学、华中理工大学、北京工业大学、合肥工业大学、《功能材料》编辑部、重庆市科学技术委员会