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热灯丝辅助PCVD生长金刚石厚膜

Growth of The Diamond Thick Film by Hot Fialment Assistant PCVD

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【作者】 王佳宇吕宪义孙越白亦真金曾孙邹广田

【Author】 Wang Jiayu L Xianyi Sun Yue Bai Yizhen Jin Zengsun Zou Guangtian (National Labrary of Superhard Material,JiLin University,Changchun 130023,China)

【机构】 吉林大学超硬材料国家重点实验室

【摘要】 本文设计出了热灯丝辅助PCVD金刚石厚膜沉积方法,该方法实现了以20~30μm/h的沉积速率沉积高品质的金刚石厚膜。本文对所制备的金刚石厚膜的取向用XRD进行分析,发现随着膜厚的增加,〈110〉取向度急剧增加。我们认为,这是生长过程中〈111〉晶面劈裂成三个〈110〉晶面的原因。

【Abstract】 Diamond thick-film had been deposited by hot filament asistant PCVD on the Mo substrate.By this way,high quality diamond thick film could been deposited at the rate of 20~30μm/h.XRD was used to analyse the structure of diamond thikfiem,abrupt increase〈110〉orientation was foud,which was caused the degeneration of the〈111〉face into〈110〉face.

【关键词】 HF-PVCD金刚石厚膜〈110〉取向
【Key words】 PCVDdiamond thick film<110> orientation
  • 【会议录名称】 第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集
  • 【会议名称】第三届中国功能材料及其应用学术会议
  • 【会议时间】1998-10-13
  • 【会议地点】中国重庆
  • 【分类号】O484.1
  • 【主办单位】中国仪器仪表学会仪表材料分会、中国金属学会功能材料分会、中国化学会、中国物理学会发光分科学会、机械工业部重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、清华大学、中国科技大学、南京大学、吉林大学、东北大学、北京科技大学、天津大学、重庆大学、四川联合大学、电子科技大学、福州大学、北京航空航天大学、湖南大学、大连理工大学、华中理工大学、北京工业大学、合肥工业大学、《功能材料》编辑部、重庆市科学技术委员会
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