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金刚石厚膜界面层结构研究
Study on Interfacial Structure of Diamond Thick Films
【作者】 白亦真； 金曾孙； 王春蕾； 姜志刚； 吕宪义； 邹广田；
【Author】 Bai Yizhen Jin Zengsun Wang Chunlei Jiang Zhigang Lu Xianyi Zou Guangtian (National Laboratory of Superhard Materials,Jilin University,Changchun 130023,China)
【机构】 吉林大学超硬材料国家重点实验室；
【摘要】 本文采用直流热阴极等离子体化学气相沉积法(简称直流PCVD方法)制备了金刚石厚膜,并且根据本方法的特点,提出了一个新的测量金刚石膜界面层结构的方法。采用显微拉曼光谱仪、X射线光电子谱仪(XPS)、及X射线衍射仪(XRD)等,测试分析了界面层的成分和结构。测试分析结果表明,界面层中含有石墨结构,它是以纳米级微晶的状态存在的。另外,界面层中含有O、Mo、Ta等杂质。对于它们的存在状态进行了分析研究。
【Abstract】 Diamond films have been deposited by direct current plasma chemical vapor deposition (DCPCVD).A novel method to study the interfacial structure between diamond film and substrate has been introduced.The interfacial structure was characterized by a combination of micro-Raman spectroscopy,X-ray photoelectron spectroscopy(XPS),and X-ray diffraction(XRD).The analysis results showed that there exists an intermediate layer between diamond and molybdenum.The intermediate layer mainly consists of nano -crystalline graphite and Tantalum Carbide.There is also small amount of molybdenum in the state of carbide and oxide.
- 【会议录名称】 第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集
- 【会议名称】第三届中国功能材料及其应用学术会议
- 【会议时间】1998-10-13
- 【会议地点】中国重庆
- 【分类号】O484
- 【主办单位】中国仪器仪表学会仪表材料分会、中国金属学会功能材料分会、中国化学会、中国物理学会发光分科学会、机械工业部重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、清华大学、中国科技大学、南京大学、吉林大学、东北大学、北京科技大学、天津大学、重庆大学、四川联合大学、电子科技大学、福州大学、北京航空航天大学、湖南大学、大连理工大学、华中理工大学、北京工业大学、合肥工业大学、《功能材料》编辑部、重庆市科学技术委员会