节点文献
中空阴极磁控溅射法制备氮化碳薄膜的光电子能谱及红外光谱研究
Studies on X-ray Photoelectron and Infrared Spectroscopy of the Carbon Nitride Thin Films Synthesized by Cathode Hollow Magnetron Sputtering
【作者】 张志宏； 范湘军； 郭怀喜； 孟宪权； 叶明生； 付强； 杨业智； 莫少波；
【Author】 Zhang Zhihong Fan Xiangjun Guo Huaixi Meng Xianquan Ye Mingsheng Fu Qiang Yang Yezhi~+ Mo Shaobo~+ (Department of Physics,Wuhan University,Wuhan,430072,China) (+ The Analyzing Center of Wuhan University,Wuhan,430072,China)
【机构】 武汉大学物理系加速器实验室； 武汉大学分析测试中心；
【摘要】 用中空阴极磁控溅射的方法,我们制备了氮化碳薄膜。X射线光电子能谱红外光谱研究表明,膜中含有两种相的氮化碳。第一种相对应的结构为C2N,碳以sp杂化形式和氮原子化合,而第二种相对应的结构为β-C3N4,碳原子以sp3杂化方式和氮化合。
【Abstract】 In the present paper,the carbon nitride films have been prepared by cathode hollow magnetron sputtering.The film structure characteristics have been analyzed by using X-ray photoelectron and IR spectroscopy. The results show that there have been two kinds of carbon nitride phased.The first phase is identified as C2N polymer,carbon atoms in sp-hybridized way bond to nitrogen atoms.The second phase responds toβ-C3N4,carbon atoms in sp3-hybridized way bond to nitrogen.
- 【会议录名称】 第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集
- 【会议名称】第三届中国功能材料及其应用学术会议
- 【会议时间】1998-10-13
- 【会议地点】中国重庆
- 【分类号】O484.41
- 【主办单位】中国仪器仪表学会仪表材料分会、中国金属学会功能材料分会、中国化学会、中国物理学会发光分科学会、机械工业部重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、清华大学、中国科技大学、南京大学、吉林大学、东北大学、北京科技大学、天津大学、重庆大学、四川联合大学、电子科技大学、福州大学、北京航空航天大学、湖南大学、大连理工大学、华中理工大学、北京工业大学、合肥工业大学、《功能材料》编辑部、重庆市科学技术委员会