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电化学气相沉积法（EVD）制备Y2O3—ZrO2薄膜
Y2O3-ZrO2（YSZ） Films Prepared by Electrochemical Vapor Deposition（EVD）
【Author】 Ma Yan Wang Ruihao Chen Yidong Liu Chuanzhen Wang Xianren (Electronic Engineering Department of Jilin University,Changchun,130023,China)
【机构】 吉林大学电子工程系；
【摘要】 采用电化学气相沉积方法（EVD）,于自制的EVD设备上,淀积了Y2O3-ZrO2（YSZ）固体电解质薄膜,并对薄膜的组成、结构、形貌、厚度等进行了XRD、SEM、XPS分析测试。结果表明:淀积的YSZ薄膜为全稳定立方晶相结构,可以控制Y2O3的掺杂浓度在8mol%～12mol%之间,满足YSZ作为高温下氧离子导电固体电解质的要求。
【Abstract】 Yttria—stabilized zirconia electrolyte films were deposited over porous substrates by electrochemical vapor deposition(EVD) and analyzed by XRD、SEM、and XPS.It was observed that cubic YSZ films were dense and uniform and the content of yttria could be controlled precisely by regulating the flowing velocity of carrier gas streams of chloride sources.Simultaneously substrate pore size plays an important role during growing.
- 【会议录名称】 第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集
- 【会议名称】第三届中国功能材料及其应用学术会议
- 【会议时间】1998-10-13
- 【会议地点】中国重庆
- 【分类号】TB383.2
- 【主办单位】中国仪器仪表学会仪表材料分会、中国金属学会功能材料分会、中国化学会、中国物理学会发光分科学会、机械工业部重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、清华大学、中国科技大学、南京大学、吉林大学、东北大学、北京科技大学、天津大学、重庆大学、四川联合大学、电子科技大学、福州大学、北京航空航天大学、湖南大学、大连理工大学、华中理工大学、北京工业大学、合肥工业大学、《功能材料》编辑部、重庆市科学技术委员会