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溅射Fe-Si合金薄膜的磁性和磁光效应

The Magnetic Properties and Magneto-Optical Effects of Sputtering Fe-Si Alloy Films

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【作者】 杨渭周铁军蒋正生蔡金华王敦辉都有为任兰亭

【Author】 Yang Wei~(1,2) Zhou Tiejun~2 Jiang Zhengsheng~2 Cai Jinhua~2 Wang Dunhui~2 Du Youwei~2 Ren Lanting~1 (1 Department of Physics,Petroleum of University,Shandong,257062,China) (2 National Laboratory of Solid State Microstructures,Nanjing University,Nanjing,210093,Chnia)

【机构】 石油大学物理系南京大学固体微结构实验室

【摘要】 用直流离子束共溅射的技术,在室温条件下制备了一系列硅原子浓度不同的Fe100-xSix合金薄膜。膜的厚度约为450nm,x变化范围从0到65%。随着Fe-Si合金薄膜中Si原子含量的变化,通过透射电镜(TEM)、X射线衍射(XRD),观察到合金膜的结构也在相应变化。在x≤20时,合金膜为<110>织构体心立方(b,c,c)结构;在22%≤x<28%时,合金膜开始部分非晶化。当x≥28时薄膜完全非晶化;通过振动样品磁强计(VSM),对薄膜的磁性也进行了研究,发现合金膜随着Si原子浓度增加矫顽力先下降再缓慢上升最后再下降;通过克尔磁光谱仪,在波长从400到850nm的范围内,对硅原子含量为x=22,28, 49%薄膜的克尔磁光谱进行了测量。观察到随波长的增加克尔转角单调增加,而椭偏率则单调下降。测量所有样品在固定波长分别为700nm和770nm时的克尔转角,在硅原子含量为x≤16%和x≥30%时,克尔转角随x增加而单调下降;在硅原子含量为20%≤x≤28%时,克尔转角随x增加而单调上升,并且最大值0.36°大于纯Fe薄膜的克尔转角。实验结果表明合金膜的非晶化对克尔转角增大起重要作用。

【Abstract】 Magneto-optical polar Kerr effects(MOKE) of Fe-Si alloy thin films were investigated in the range of 400~850nm wavelength at room temperature.A maximun Kerr rotation angle(θ_k) of 0.36 degree was obtained when a magnetic field of 10 kOe was applied perpendicular to the film plane.We have measuredθ_k as a function of Si atom fraction(f_a) of these films.It was found that a maximunθ_k occurred at f_a≈0.35, this f_a is a threshold value of a transition from polycrystalline to amorphous alloy film.The experiment results indicate that amorphization may play an important role in enhancement the polar Kerr rotation of these films.

【关键词】 合金膜结构磁性磁光效应
【Key words】 alloy filmsstructuremagnetismMagneto-optical effects
【基金】 国家攀登项目“纳米材料科学”;国家自然科学基金的资助
  • 【会议录名称】 第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集
  • 【会议名称】第三届中国功能材料及其应用学术会议
  • 【会议时间】1998-10-13
  • 【会议地点】中国重庆
  • 【分类号】O484.43
  • 【主办单位】中国仪器仪表学会仪表材料分会、中国金属学会功能材料分会、中国化学会、中国物理学会发光分科学会、机械工业部重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、清华大学、中国科技大学、南京大学、吉林大学、东北大学、北京科技大学、天津大学、重庆大学、四川联合大学、电子科技大学、福州大学、北京航空航天大学、湖南大学、大连理工大学、华中理工大学、北京工业大学、合肥工业大学、《功能材料》编辑部、重庆市科学技术委员会
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