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溅射Fe-Si合金薄膜的磁性和磁光效应
The Magnetic Properties and Magneto-Optical Effects of Sputtering Fe-Si Alloy Films
【作者】 杨渭; 周铁军; 蒋正生; 蔡金华; 王敦辉; 都有为; 任兰亭;
【Author】 Yang Wei~(1,2) Zhou Tiejun~2 Jiang Zhengsheng~2 Cai Jinhua~2 Wang Dunhui~2 Du Youwei~2 Ren Lanting~1 (1 Department of Physics,Petroleum of University,Shandong,257062,China) (2 National Laboratory of Solid State Microstructures,Nanjing University,Nanjing,210093,Chnia)
【机构】 石油大学物理系; 南京大学固体微结构实验室;
【摘要】 用直流离子束共溅射的技术,在室温条件下制备了一系列硅原子浓度不同的Fe100-xSix合金薄膜。膜的厚度约为450nm,x变化范围从0到65%。随着Fe-Si合金薄膜中Si原子含量的变化,通过透射电镜(TEM)、X射线衍射(XRD),观察到合金膜的结构也在相应变化。在x≤20时,合金膜为<110>织构体心立方(b,c,c)结构;在22%≤x<28%时,合金膜开始部分非晶化。当x≥28时薄膜完全非晶化;通过振动样品磁强计(VSM),对薄膜的磁性也进行了研究,发现合金膜随着Si原子浓度增加矫顽力先下降再缓慢上升最后再下降;通过克尔磁光谱仪,在波长从400到850nm的范围内,对硅原子含量为x=22,28, 49%薄膜的克尔磁光谱进行了测量。观察到随波长的增加克尔转角单调增加,而椭偏率则单调下降。测量所有样品在固定波长分别为700nm和770nm时的克尔转角,在硅原子含量为x≤16%和x≥30%时,克尔转角随x增加而单调下降;在硅原子含量为20%≤x≤28%时,克尔转角随x增加而单调上升,并且最大值0.36°大于纯Fe薄膜的克尔转角。实验结果表明合金膜的非晶化对克尔转角增大起重要作用。
【Abstract】 Magneto-optical polar Kerr effects(MOKE) of Fe-Si alloy thin films were investigated in the range of 400~850nm wavelength at room temperature.A maximun Kerr rotation angle(θ_k) of 0.36 degree was obtained when a magnetic field of 10 kOe was applied perpendicular to the film plane.We have measuredθ_k as a function of Si atom fraction(f_a) of these films.It was found that a maximunθ_k occurred at f_a≈0.35, this f_a is a threshold value of a transition from polycrystalline to amorphous alloy film.The experiment results indicate that amorphization may play an important role in enhancement the polar Kerr rotation of these films.
- 【会议录名称】 第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集
- 【会议名称】第三届中国功能材料及其应用学术会议
- 【会议时间】1998-10-13
- 【会议地点】中国重庆
- 【分类号】O484.43
- 【主办单位】中国仪器仪表学会仪表材料分会、中国金属学会功能材料分会、中国化学会、中国物理学会发光分科学会、机械工业部重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、清华大学、中国科技大学、南京大学、吉林大学、东北大学、北京科技大学、天津大学、重庆大学、四川联合大学、电子科技大学、福州大学、北京航空航天大学、湖南大学、大连理工大学、华中理工大学、北京工业大学、合肥工业大学、《功能材料》编辑部、重庆市科学技术委员会