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磁控反应溅射GexC1-x薄膜的光学性能
Optical Property of GexC1-x Films Prepared by Magnetron Reactive Sputtering
【Author】 Liu Zhengtang Song Jianquan Zhu Jingzhi Geng Dongsheng Zheng Xiulin (College of Materials Science and Engineering,Northwestern Polytechnical University,Xi’an,710072,China)
【机构】 西北工业大学材料科学与工程学院；
【摘要】 利用射频磁控反应溅射法,以Ar、CH4为原料气体,在较宽的工艺参数范围内制备出了GexC1-x薄膜。用可见光光度计及傅立叶红外光谱对薄膜的光学性能进行了研究。结果表明,随CH4流量的增加薄膜的折射率下降,且对可见光变得逐渐透明。GexC1-x薄膜的折射率可根据工艺参数的改变在1.8～4.2之间变化,这对于多层红外增透膜的设计和实现具有重要的意义。增透膜沉积实验表明,GexC1-x膜系对ZnS衬底具有良好的增透效果。
【Abstract】 GexC1-x films were prepared by radio frequency magnetron reactive sputtering in Ar/CH4.The Optical property of films GexC1-x depended strongly on deposition conditions.With increasing the gas flow ratio of CH4/（CH4+Ar）,the refractive index decreased and GexC1-x films were more transparent to visible light. The refractive index of GexC1-x films obtained varied with composition in a broad range of 1.8～4.2（λ= 2. 5μm）,which made it very versatile to realize infrared multilayer system by changing the gas flow ratio during deposition.Our work demonstrated that GexC1-x films could provide excellent infrared antireflection for ZnS substrate.
【Key words】 GexC1-x films； magnetron reactive sputtering； refractive index； infrared antireflection film；
- 【会议录名称】 第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集
- 【会议名称】第三届中国功能材料及其应用学术会议
- 【会议时间】1998-10-13
- 【会议地点】中国重庆
- 【分类号】O484.41
- 【主办单位】中国仪器仪表学会仪表材料分会、中国金属学会功能材料分会、中国化学会、中国物理学会发光分科学会、机械工业部重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、清华大学、中国科技大学、南京大学、吉林大学、东北大学、北京科技大学、天津大学、重庆大学、四川联合大学、电子科技大学、福州大学、北京航空航天大学、湖南大学、大连理工大学、华中理工大学、北京工业大学、合肥工业大学、《功能材料》编辑部、重庆市科学技术委员会