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线性电位扫描测定酸性光亮镀锡溶液极化曲线

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【作者】 陈火平罗序燕李东林李勋

【机构】 南方治金学院赣南师范学院

【摘要】 DL01、DL02的主要成分是无芳香族的希夫碱,DL03的主要成分是醇醛缩合物。DL01、DL02及DL03可用作铜线材高速镀铜,锡铜合金的光亮剂,为了了解它们电化学行为,用线性电位扫描测定了含添加剂的硫酸、氟硼酸盐光亮镀锡溶液的极化曲线,这些添加剂从DL01、DL02、DL03、OP-10、Co(BF42和商用FB中选择一个或多个。工作电极是φ3mm的铜棒,参比电极是银-氯化银电极,对电极是铂丝。测定参数是起始电位为0v,终止电位是-0.450v,扫描速度0.025v/s,扫描间隔为0.001v。结果表明,在DL01或FB的硫酸镀锡溶液中,Sn2+的还原峰电位分别是E=-0.275v及E=-0.265v。在含DL02或DL03的硫酸镀锡溶液中,有二个Sn2+的还原峰,低电位还原峰分别是E=-0.160v、-0.240v;高电位还原峰的电位分别是E一0.395v、-0.410v,并使大量析氢电位峰负移-0.080v、-0.100v。在含DL01或DL03的氟硼酸镀液中,Sn2+的还原峰电位为-0.230v、-0.320v。在含DL01,DL03及3.6g/1 Co(BF42的氟硼权利镀锡溶液中,Sn-Co共沉积峰电位E=-0.210v,峰电位比仅含DL01或DL03的溶液的峰电流高近3倍,这表明Co(BF42促进了Sn2+的沉积,因而Sn-Co的共析是协同共沉积。

  • 【会议录名称】 2002年全国电子电镀年会论文集
  • 【会议名称】2002年全国电子电镀年会
  • 【会议时间】2002-05-01
  • 【会议地点】中国广东广州
  • 【分类号】O614
  • 【主办单位】中国电子学会生产技术学分会电镀技术部
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