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电沉积法制备纳米金属多层膜

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【作者】 冯钊永张伟玲张卫国姚素薇

【机构】 天津大学化工学院应用化学系

【摘要】 本文分别采用单槽法和双槽法电沉积制备Cu/Co多层膜。研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用电化学方法和扫描电子显微镜(SEM)对镀层进行表征。通过对比分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点。

【关键词】 纳米金属多层膜电沉积单槽法双槽法
  • 【会议录名称】 2001年全国电子电镀年会论文集
  • 【会议名称】2001年全国电子电镀年会
  • 【会议时间】2001-05-01
  • 【会议地点】中国江苏苏州
  • 【分类号】TB383.2
  • 【主办单位】中国电子学会生产技术学分会电镀专业委员会
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